演講主題：ALD於鈣鈦礦製程技術開發
演講講師：何文彬技術處長 / 美商應用材料
KYO/編輯：簡谷衛
ALD鍍膜技術與PECVD SiN Barrier Film技術是台灣應用材料可以應用於鈣鈦礦量子點和鈣鈦礦太陽能電池的技術。該公司的PICOSUN™ R-200高級ALD系統已在全球市場上取得卓越成就，成為高級ALD研究工具引領者，并擁有上百名客戶。這款系統的靈活設計確保高品質的ALD薄膜沉積，並且具備超級靈活的系統配置，以滿足未來各種需求和應用。
該系統具有多項技術特徵，包括專利註冊的熱腔壁設計、完全獨立的前驅物管線和顯示技術，使其能廣泛應用於晶片、3D物件以及所有奈米尺度的材料。即使在最具挑戰性的多孔材料、超高深寬比和奈米顆粒表面沉積，該系統也能實現極好的均勻性，這歸功於專利技術Picoflow™。此外，該系統配備了功能強大且易於更換的液態、氣態和固態前驅物，同時具備高效率和遠端電漿專利技術，可以沉積金屬而無短路和電漿損傷風險。該系統還可整合多種附加設備，包括手套箱、UHV系統、手動或半自動裝載器集群系統、粉末反應腔、卷對卷反應腔和各種即時分析系統，以勝任當下和未來的研究需求。
台灣應用材料是全球最大的半導體和顯示器設備領先廠商之一，名列全球五百大企業之一。公司成立於1967年，總部位於美國加州矽谷聖塔克拉拉，擁有技術研發和製造中心遍布美國、歐洲、以色列、台灣和新加坡等地，擁有110個服務據點，員工超過33,000人。台灣應用材料公司是其在台子公司，服務據點包括林口、新竹、台中和台南，擁有全球技術培訓中心、台南顯示器設備製造中心、研發實驗室以及200mm半導體設備製造中心。該公司以提供材料工程解決方案為專長，用來製造各種新式晶片和先進顯示器，並且在原子層級的材料改質方面具有卓越的工業規模專業知識。
台灣應用材料的主要商品和服務項目包括半導體設備（ALD、CMP、CVD、ECD、Epitaxy、Etch、Ion Implant、Metrology and Inspection、PVD、Rapid Thermal Processing）、顯示器設備及相關產業事業群（Array Test、CVD、PVD、Wafering and Inspection、Cell manufacturing、Ion Implantation、Screen Printing）以及全球服務（Fab Services、FabVantage、Components、Equipment、Software等）。
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